Analytical EM Session bei den Berlin Photonic Days#
Die Berlin Photonics Week vom 6. bis 9. Oktober bietet am 6. Oktober im Rahmen der Photonic Days eine spezielle Session zum Thema Analytical Electron Microscope for Photonics und am 9. Oktober im Rahmen der Photonic Travel Days eine Führung durch das PDI mit Besichtigungen verschiedener Labore, darunter das ZALKAL-Labor.
In dieser Sitzung kommen Experten für Elektronenstrahltechniken zusammen, um ihre neuesten Anwendungen vorzustellen, wissenschaftliche Ergebnisse zu diskutieren und aktuelle Entwicklungen bei Messsystemen zu bewerten. Darüber hinaus bietet sie der breiteren Photonik-Gemeinschaft die Möglichkeit, einen Einblick zu gewinnen, welche Erkenntnisse sich mithilfe dieser Mikroskopietechniken gewinnen lassen.
Elektronenstrahlverfahren haben sich als leistungsstarke Werkzeuge zur Charakterisierung und Herstellung einer Vielzahl von Materialsystemen auf Längenskalen von Mikrometern bis Nanometern etabliert. In jüngerer Zeit werden auch gepulste Elektronenstrahlen eingesetzt, um eine zeitliche Auflösung zu erzielen.
Dies macht solche Verfahren für die Forschung im Bereich der Halbleiter und der Photonik der nächsten Generation besonders interessant. Durch den Einsatz hochenergetischer Elektronenstrahlen im Raster- oder Transmissionsmikroskopiemodus lassen sich die spektroskopischen, chemischen, strukturellen und topografischen Eigenschaften solcher Systeme mithilfe von Verfahren wie der Kathodolumineszenzspektroskopie (CL), der Rastertransmissionselektronenmikroskopie (STEM), der Elektronenenergieverlustspektroskopie (EELS), der Elektronentomografie (ET), energiedispersive Röntgenspektroskopie (EDS) und Elektronenrückstreubeugung (EBSD) untersucht werden.
Programm der Session am 7. Okt. 2026:
10:00-10:30 „Quantifying plasmons with fast electrons: from momentum-resolved dispersions to absolute loss probabilities“, Hannah Nerl (Humboldt University of Berlin)
10:30-11:00 „Advanced scanning transmission electron microscopy of threading dislocation reduction mechanisms in platforms for silicon-integrated photonics“, Karl Graser (Paul-Drude-Institut für Festkörperelektronik)
11:00-11:30 „Imaging Optical Excitations at the Nanoscale with Laser-Stimulated Vibrational EELS“, Benedikt Haas (Humboldt University of Berlin)
11:30-12:00 „Merging advanced photonics with ultrafast electron microscopy“, Armin Feist (Max-Planck-Institut für Multidisziplinäre Naturwissenschaften)
12:00-14:00 Lunch Break
14:00-14:30 „SEM, EBL, and CL for deterministic fabrication and high-resolution metrology of nanophotonic devices“, Sven Rod (Technische Universität Berlin)
14:30-15:00 „Electron microscopy as a tool for characterizing semiconductor material, analyzing device degradation, and conducting quality control at the FBH“, Carsten Netzel (Ferdinand-Braun-Institut)
15:00-15:00 „Correlative electron microscopy analyses on optoelectronic semiconductor devices“, Daniel Abou-Ras (Helmholtz-Zentrum Berlin HZB)
15:30-16:00 „Correlated high-resolution electron backscatter diffraction and cathodoluminescence mapping for studying the distortion tensor around isolated GaN dislocations“, Domenik Spallek (Paul-Drude-Institut für Festkörperelektronik)
16:00-16:30 Coffee Break
16:30-17:00 „Non-Perturbative Measurement of the Lasing-Mode Photon Population at the Sub-Picoseconds and Nanometer Scale“, Cléo Santini (Centre d’Élaboration de Matériaux et d’Etudes Structurales (CEMES))
17:00-17:30 „From Defects to devices: Electron-based characterization of III-nitride semiconductor nanowire“, Gwénolé Jacopin (Institut Néel)
17:30-18:00 „CL and EBIC microscopy of nitride based optoelectronic devices: into carrier transport and recombination at the nanometerscale“, Gordon Schmid (Institute of Physics, Otto-von-Guericke-University Magdeburg)
